| 专利名称 | 用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统及方法 | 申请号 | CN201710734787.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107588728A | 公开（授权）日 | 2018.01.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 宋莹;吕强;李文昊;刘兆武;王玮;巴音贺希格 | 主分类号 | G01B11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统及方法 至用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统，在扫描干涉场曝光系统的正面及背面分别引入长行程、高精度衍射光栅位移测量系统，所述光栅位移测量系统均包括：双频激光器、光阑、读数头，所述双频激光器、光阑、读数头分别固定在激光器固定板的正反面相同位置，所述激光器固定板固定在大理石平台的底端，所述光阑通过控制系统自动控制双频激光器的出射光是否进入读数头，所述读数头集成了光学元件和接收器。本发明是一种解决测量行程增大导致激光干涉仪受环境影响更为敏感而造成测量精度下降的测量系统和方法，降低环境控制成本，提高光栅衍射波前质量。 |
1、源头对接，价格透明
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