| 专利名称 | 9?羟基?3?异吩恶嗪酮在基质辅助激光解吸电离中的用途 | 申请号 | CN201610480131.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107543860A | 公开（授权）日 | 2018.01.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院化学研究所 | 发明（设计）人 | 熊彩侨;聂宗秀;王继云;黄熹;刘会会 | 主分类号 | G01N27/64(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N27/64(2006.01)I | 专利有效期 | 9?羟基?3?异吩恶嗪酮在基质辅助激光解吸电离中的用途 至9?羟基?3?异吩恶嗪酮在基质辅助激光解吸电离中的用途 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提出了9?羟基?3?异吩恶嗪酮在基质辅助激光解吸电离中的用途以及测定待测颗粒质量的方法。9?羟基?3?异吩恶嗪酮的酸性很弱，对颗粒样品无腐蚀，并且，其最大吸收波长在可见光处，很多大分子在可见光区域吸收很弱，从而能有效降低激光引起的样品激发及破碎。9?羟基?3?异吩恶嗪酮用于基质辅助激光解吸电离，可实现完整颗粒，尤其是大颗粒或细胞等没有坚硬外壳的生物颗粒的高效解吸和电离。本发明实施例所提出的测定待测颗粒质量的方法从技术上克服了常用有机小分子基质无法保持细胞等没有坚硬外壳颗粒完整性的缺陷，且本发明实施例所采用的基质，背景干扰小，解吸电离效率高，适用于多种无机、有机和生物颗粒的质量分析和测定。 |
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