| 专利名称 | 偏振频域光学相干层析成像光谱校准方法 | 申请号 | CN201710420299.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107328740A | 公开（授权）日 | 2017.11.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 陈艳;李中梁;王向朝;南楠;王瑄;潘柳华;卢宇;宋思雨 | 主分类号 | G01N21/45(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/45(2006.01)I | 专利有效期 | 偏振频域光学相干层析成像光谱校准方法 至偏振频域光学相干层析成像光谱校准方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种偏振频域光学相干层析成像光谱校准方法，更确切地说是通过自动寻找波数k的最优校准系数进行偏振频域光学相干层析成像光谱校准的方法。该方法先对各个光谱进行光电探测器像素与波长对应关系进行粗略校准，然后以一路光谱(V)的波数为基准，将另一路光谱(H)的波数乘以最优系数实现精确校准。最优系数通过评判光谱V和校准后光谱H的A?line信号相关度来自动确定。本发明拓展了光谱校准的适用范围，对高斯和非高斯型光谱均适用，同时提高了校准精度，有利于样品偏振参数的计算。 |
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