| 专利名称 | 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法 | 申请号 | CN201710270946.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107201034A | 公开（授权）日 | 2017.09.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 宋伟杰;张景;张贤鹏;鲁越晖;艾玲;李啸 | 主分类号 | C08L79/08(2006.01)I | IPC主分类号 | C08L79/08(2006.01)I;C08L33/12(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)I;C08L69/00(2006.01)I;C08L67/02(2006.01)I;C08L61/16(2006.01)I;C08K9/10(2006.01)I;C08K7/26(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C08J7/04(2006.01)I;C08J7/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法 至一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜，所述聚合物复合薄膜包括聚合物薄膜层和镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层，通过在所述聚合物薄膜层的至少一面均匀镶嵌空心SiO2纳米粒子，在聚合物薄膜层表面形成所述镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层。还公开了所述聚合物复合薄膜的制备方法，包括：依次在刚性基材上制备空心SiO2纳米粒子层和聚合物薄膜层，固化后剥离刚性基材，得到单面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜，在单面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜的基础上可进一步制备双面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜。所得聚合物复合薄膜能同时实现增透与抗原子氧剥蚀的性能，制备操作简单。 |
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