| 专利名称 | 一种大面积超分辨光刻装置 | 申请号 | CN201711346477.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108089409A | 公开（授权）日 | 2018.05.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;赵承伟;李猛;王长涛;赵泽宇 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种大面积超分辨光刻装置 至一种大面积超分辨光刻装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种大面积超分辨光刻装置，属于超分辨光刻设备的技术领域。该装置包括隔振地基、主动隔振平台、主基板、紫外曝光光源、间隙检测系统、对准模块、超分辨光刻镜头模块、工件台模块、激光干涉测量系统、超精密环控系统和控制系统。该设备通过干涉技术，实现了纳米量级精度的在线间隙检测；通过精密调平和间隙控制技术，实现了几十纳米量级间隙光刻功能；通过承片台局部气控技术，实现了大面积超分辨步进光刻功能。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障