| 专利名称 | 基于柔性材料的超分辨光刻装置 | 申请号 | CN201711316114.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107817653A | 公开（授权）日 | 2018.03.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;赵承伟;李猛;王长涛;王彦钦;罗云飞 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 基于柔性材料的超分辨光刻装置 至基于柔性材料的超分辨光刻装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于柔性材料的超分辨光刻装置，包括光源系统、掩模吸附板、掩模、柔性基片、承片台、密封球耳、弹性薄膜、弹性薄膜压板、升降台、精密气压控制系统。光源系统位于掩模的上方，掩模吸附板上开有环形槽，通过抽取真空，掩模吸附在掩模吸附板上，柔性基片位于掩模下方，柔性基片置于承片台表面，承片台表面开有环形气槽，柔性基片被真空吸附在承片台上，密封球耳安装在承片台上，承片台开有台阶孔，弹性薄膜通过弹性薄膜压板固定在台阶孔内，弹性薄膜与承片台形成密闭空间，台阶孔侧壁开有气孔与精密气压控制系统相连，承片台下表面与升降台相连，可以调节基片与掩模之间距离。解决了基片与掩模之间憋气问题对超分辨光刻的影响。 |
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