| 专利名称 | 用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座 | 申请号 | CN201610320201.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107304475A | 公开（授权）日 | 2017.10.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明（设计）人 | 付方彬;金鹏;王占国 | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 专利有效期 | 用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座 至用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于微波等离子体化学气相沉积设备的组合式衬底基座，包括托盘主体，呈一圆盘结构，该圆盘外侧边上具有外螺纹，所述圆盘中心具有一凹槽；外边缘部件，呈一圆环结构，所述圆环内侧边上具有与所述外螺纹配套的内螺纹，外环部件通过配套的螺纹结构旋拧在托盘主体上且可通过控制旋拧圈数改变外环部件相对于托盘主体的高度位置；以及内嵌部件，其嵌置于所述凹槽内，所述内嵌部件中间开设一用于放置样品的凹坑。组合式衬底基座采用三段式分体结构，这使得可以对托盘的结构进行细微的调整，从而精细的研究托盘结构的变化对实验的影响程度，提高实验的精确性和可靠性。 |
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