一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜

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专利名称 一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜 申请号 CN201611168145.8 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN106772710A 公开(授权)日 2017.05.31 申请(专利权)人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明(设计)人 邓文渊;金春水;靳京城;李春 主分类号 G02B1/115(2015.01)I IPC主分类号 G02B1/115(2015.01)I 专利有效期 一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜 至一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及一种减反射膜的制备方法,包括以下步骤:步骤S100,在基底上,采用真空热沉积方法交替进行正入射沉积高折射率单层膜及低折射率单层膜;步骤S200,在最外层采用真空热沉积方法,以预设的入射沉积角度α倾斜沉积低折射率单层膜;其中,所述入射沉积角度α为基底法线方向与膜料蒸汽入射方向的夹角,所述预设的入射沉积角度α的取值范围为50°?85°。利用该制备方法制得的减反射膜应用在扩束棱镜中,可有效提高大入射角时的透射率,降低残余反射率。

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