| 专利名称 | 射频离子源工作参数优化方法 | 申请号 | CN201711251535.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN108032145A | 公开（授权）日 | 2018.05.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 唐瓦;邓伟杰;尹小林;薛栋林;张学军 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I;G06F17/50(2006.01)I | 专利有效期 | 射频离子源工作参数优化方法 至射频离子源工作参数优化方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种射频离子源工作参数优化方法，包括：获取光学镜面误差信息，并确定去除函数最优半宽尺寸；选择离子源前端出口尺寸；通过法拉第杯对离子源的离子束流进行测量；自动调整射频电源功率和工作气体流量，其中控制系统与离子源连接并用于控制离子源的射频电源功率和工作气体流量；根据法拉第杯扫描结果选择电流最大值时对应的射频电源功率和工作气体流量；控制系统自动调整离子源工作参数，并根据法拉第杯扫描结果选择电流值最大时对应的加速电压值；固定上述离子源工作参数，进行法拉第杯扫描；通过法拉第杯扫描计算得到去除函数信息；仿真计算判断去除函数是否满足工作需求，若否则重新对离子源的离子束流进行测量，若是则优化结束。 |
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