一种X射线微分相位衬度显微镜系统及其二维成像方法

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专利名称 一种X射线微分相位衬度显微镜系统及其二维成像方法 申请号 CN201610617865.1 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN107664648A 公开(授权)日 2018.02.06 申请(专利权)人 中国科学院高能物理研究所 发明(设计)人 朱佩平;张凯;袁清习;黄万霞;朱中柱 主分类号 G01N23/04(2018.01)I IPC主分类号 G01N23/04(2018.01)I;G01N23/083(2018.01)I 专利有效期 一种X射线微分相位衬度显微镜系统及其二维成像方法 至一种X射线微分相位衬度显微镜系统及其二维成像方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种X射线微分相位衬度显微镜系统及其二维成像方法,所述X射线微分相位衬度显微镜系统包括:用于产生X射线的光源;以及沿X射线传播方向依次设置的聚光镜、中心光阑、分束光栅、针孔、样品台、物镜、环形分析光栅和成像探测器。本发明的有益效果是:该X射线微分相位衬度显微镜系统,仅在传统的X射线显微镜中增加分束光栅和环形分析光栅,就能实现相位衬度定量成像,具有结构简单、易于推广的优点。另外,可以将X射线光源、聚光镜、分束光栅集成为一个X射线环形栅源元件,则整个X射线微分相位衬度显微镜系统长度可以进一步缩短,不仅可以降低X射线显微镜系统的制造成本,而且光的利用效率也能进一步提高。

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