| 专利名称 | 一种化学气相沉积系统 | 申请号 | CN201720306140.0 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206607312U | 公开（授权）日 | 2017.11.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;肖明;郭光灿 | 主分类号 | C23C16/448(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/448(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 专利有效期 | 一种化学气相沉积系统 至一种化学气相沉积系统 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型提供了一种化学气相沉积系统，包括：化学沉积室；化学沉积室包括反应腔体；设置于化学沉积室外的高温加热装置；与化学沉积室相连通的气体供给系统；气体供给系统包括气体源进气管与固体源气体进气管，固体源气体进气管位于气体源进气管的管内；固体源气体进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通；气体源进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通；与化学沉积室的反应腔体相连通的真空系统。与现有技术相比，本实用新型将固体源气体进气管与固体源气体进气管分开，使固体源气体完全不受气体源气体的影响，使两种源无交叉污染生长；通过将固体源移到固体加热装置里，使其不受高温辐射的影响，实现对固体源蒸发速率的控制。 |
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