一种山莴苣素苦素分子印迹整体柱的制备方法

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专利名称 一种山莴苣素苦素分子印迹整体柱的制备方法 申请号 CN201710621924.7 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN107262065A 公开(授权)日 2017.10.20 申请(专利权)人 中国科学院新疆理化技术研究所 发明(设计)人 阿吉艾克拜尔·艾萨;杨建;雅森·米吉提;刘照胜 主分类号 B01J20/26(2006.01)I IPC主分类号 B01J20/26(2006.01)I;B01J20/281(2006.01)I;B01J20/30(2006.01)I;B01D15/20(2006.01)I;G01N30/02(2006.01)I;G01N30/60(2006.01)I 专利有效期 一种山莴苣素苦素分子印迹整体柱的制备方法 至一种山莴苣素苦素分子印迹整体柱的制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供一种山莴苣苦素印迹整体柱的制备方法,该方法以少量的山莴苣苦素为模板分子,加入拥挤试剂聚苯乙烯,以四氢呋喃溶液做溶剂,以甲苯做致孔剂,再加入功能单体4?乙烯基吡啶、交联剂二甲基丙烯酸乙二醇酯和引发剂偶氮二异丁腈,然后超声溶解除去溶解氧,在水浴中进行聚合反应,最后得到具有选择性的山莴苣苦素分子印迹整体柱。本发明所述方法模板消耗量少,大大地降低了山莴苣苦素的印迹成本。在不锈钢柱管?(100?mm×4.6?mm)?中成功合成了山莴苣苦素印迹整体柱,以及空白对照柱并进行色谱性能优化。实验结果表明,印迹因子最高可达2.20。该方法制备简单,且高分子聚合物耐用性好,为山莴苣苦素的分离纯化提供了一条新路径。

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