| 专利名称 | 一种计算全息基底刻蚀误差的在位标定方法 | 申请号 | CN201710532268.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107255456A | 公开（授权）日 | 2017.10.17 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 宋伟红;吴高峰;侯溪;全海洋 | 主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/24(2006.01)I | 专利有效期 | 一种计算全息基底刻蚀误差的在位标定方法 至一种计算全息基底刻蚀误差的在位标定方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种计算全息基底刻蚀误差在位标定方法。该方法可在计算全息检测非球面的光路条件下，保持计算全息光路位置不变，实现计算全息基底刻蚀误差的在位标定。具体光路结构为将待测的非球面替换成球面镜，并在计算全息与球面镜加入补偿器，对系统球差进行补偿。在计算全息进行刻蚀加工之前，将该平行平板基底放入光路中进行第一次检测；在计算全息基板完成全息刻蚀加工之后，再将计算全息放入光路中进行第二次检测，两次检测结果之差即为标定得到的计算全息基底刻蚀误差。该方法突破了现有在位标定技术中非球面的F数限制问题，且标定精度并不受限于补偿器的制作精度水平和待测球面的面形质量，无需对补偿器和待测球面面形误差进行标定。 |
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