| 专利名称 | 一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法 | 申请号 | CN201710481581.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107037521A | 公开（授权）日 | 2017.08.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 王孝东;陈波;王海峰;郑鑫 | 主分类号 | G02B5/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/20(2006.01)I;G02B5/26(2006.01)I | 专利有效期 | 一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法 至一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本申请公开了一种121.6nm窄带负滤光片及其制备方法，该方法包括：确定制备121.6nm窄带负滤光片时所需的多层膜的镀膜材料以及相应的基础膜系结构；基于镀膜材料以及基础膜系结构，计算相应的等效导纳以及位相厚度；根据等效导纳以及位相厚度，依次在多层膜与入射介质之间、以及多层膜与基底之间分别进行导纳匹配处理，以对基础膜系结构进行优化，得到优化后膜系结构；根据优化后膜系结构，制备相应的121.6nm窄带负滤光片。本申请可消除由于多层膜与入射介质、基底之间导纳不匹配而使得旁带和可见光波段具有高反射率的现象，而基于上述经过优化处理的膜系结构制备得到的121.6nm负滤光片具有较低的旁带以及可见光波段的反射率，从而有利于提升121.6nm谱线的质量。 |
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