| 专利名称 | 基于几何误差优化的图像中二次曲线拟合方法 | 申请号 | CN201610953755.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106570864A | 公开（授权）日 | 2017.04.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院自动化研究所 | 发明（设计）人 | 吴毅红 | 主分类号 | G06T7/00(2017.01)I | IPC主分类号 | G06T7/00(2017.01)I | 专利有效期 | 基于几何误差优化的图像中二次曲线拟合方法 至基于几何误差优化的图像中二次曲线拟合方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种基于几何误差优化的图像中二次曲线拟合方法，包括：提取图像中特定二次曲线M的边缘图像的点mi；计算点mi到二次曲线M的几何距离dfa(mi,C)；对几何距离dfa(mi,C)进行线性加权迭代，运用奇异值分解方法获得与C相关的矩阵C1；利用基于最短几何距离d(mi,C)构建的目标函数，计算当C＝C1时使得目标函数最小化时的微小量Δui,Δvi及尺度参数λi的值，并分别记为Δui1,Δvi1及λi1；以Δui1,Δvi1及λi1为初始值，对所述目标函数进行非线性优化求解，获得二次曲线M的系数矩阵C2，依据系数矩阵C2生成所述图像中特定二次曲线M的优化后的二次曲线M2。本发明实现了同时兼顾图像中二次曲线拟合方法的高效率和高精度的理想效果，且提高了图像中二次曲线拟合的精度。 |
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