| 专利名称 | 一种适用于超高真空环境的宽波段光斑聚焦装置 | 申请号 | CN201821066949.1 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN208953760U | 公开（授权）日 | 2019.06.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 刘毅; 张波; 孙喆; 张国斌 | 主分类号 | G02B7/04 | IPC主分类号 | G02B7/04 | 专利有效期 | 一种适用于超高真空环境的宽波段光斑聚焦装置 至一种适用于超高真空环境的宽波段光斑聚焦装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种适用于超高真空环境的宽波段光斑聚焦装置，属于高真空聚焦系统设计领域。包括真空腔体、可调节焦距的锥齿轮组合、实现光斑缩小的聚焦模块；通过锥齿轮组合的旋钮带动支撑和控制聚焦模块支架的前后移动，通过螺纹之间的传动，使得聚焦模块能够实现焦距的可调控性，从而可以在不增加光程和光路复杂程度基础上，有效缩小1000nm‑120nm波长范围光斑尺寸，并且可通过聚焦模块上的卡扣部件的简易操作将聚焦模块在真空环境中移离原始光路，不限制原有光源波长范围。 |
1、源头对接，价格透明
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