| 专利名称 | 一种均匀气流激光剥蚀池及其应用 | 申请号 | CN201711434961.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107870118A | 公开（授权）日 | 2018.04.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院地质与地球物理研究所 | 发明（设计）人 | 谢烈文 | 主分类号 | G01N1/44(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N1/44(2006.01)I;G01N27/62(2006.01)I | 专利有效期 | 一种均匀气流激光剥蚀池及其应用 至一种均匀气流激光剥蚀池及其应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种均匀气流激光剥蚀池及其应用，所述激光剥蚀池包括均匀气流发生器、样品室和样品导出部，所述均匀气流发生器包括壁部、发生器内腔、将发生器内腔分隔成第一缓冲区和第二缓冲区的单层缓冲筛板、在所述第一缓冲区中植入一金属气管，所述金属气管的外端为气体入口，所述金属气管的管壁上设置有至少5个散气孔，孔口开向发生器内腔上壁；所述样品室与第二缓冲区通过一多层筛板气体连通，所述样品导出部与所述样品室流体连通；所述样品导出部设置有导出口。本发明能够提供均匀的气流来降低不同剥蚀位置的粒子传输效率，从而降低位置效应对同位素分馏结果准确度和精确度的影响，在高精度同位素组成分析领域具有重要的应用价值。 |
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