| 专利名称 | 已知目标相对光谱分布的成像光谱仪光谱杂散光修正算法 | 申请号 | CN201710689596.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107631799A | 公开（授权）日 | 2018.01.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 李占峰;王淑荣;黄煜;薛庆生 | 主分类号 | G01J3/44(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J3/44(2006.01)I | 专利有效期 | 已知目标相对光谱分布的成像光谱仪光谱杂散光修正算法 至已知目标相对光谱分布的成像光谱仪光谱杂散光修正算法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 已知目标相对光谱分布的成像光谱仪光谱杂散光修正算法，属于成像光谱仪探测领域，能从根本上消除杂散光对成像光谱仪测量结果的影响。本发明根据光谱杂散光对待测成像光谱仪的影响原理，利用单色仪输出一系列单色均匀光依次进入并充满待测成像光谱仪的视场，并利用绝对辐射计记录一系列单色光光谱的能量，经计算得到待测成像光谱仪各像元的归一化光谱响应函数；然后与目标相对光谱分布联合计算各像元响应信号中有效光谱信号与总信号的比例，最后在观测目标时的实测信号中乘以有效光谱信号所占比例即得到有效光谱信号，完成对待测成像光谱仪的光谱杂散光修正。本发明测量精度高，计算简单，易于编程，便于实时计算。 |
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