| 专利名称 | 双点光源间距的纳米精度测量方法 | 申请号 | CN201710547369.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107462179A | 公开（授权）日 | 2017.12.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 董冠极;唐锋;王向朝;冯鹏;彭常哲 | 主分类号 | G01B11/14(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/14(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I | 专利有效期 | 双点光源间距的纳米精度测量方法 至双点光源间距的纳米精度测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种双点光源间距的纳米精度测量方法，将面阵探测器放置在两个点光源下方，建立双点光源干涉场的数学模型，通过控制点光源的开闭并结合图像处理技术，获得点光源间距的粗测值，然后保持两个点光源均打开，采集两个点光源的干涉图，求解干涉相位，按照面阵探测器坐标系，对得到的干涉相位进行泽尼克多项式前9项拟合得到泽尼克多项式系数值。通过计算像差项系数的偏导数，并结合面阵探测器采集到的干涉相位拟合泽尼克多项式的系数值，利用偏导数的定义实现对点光源间距d、点光源的连线中心与面阵探测器光敏面的垂直距离Z、面阵探测器旋转角度θ和面阵探测器倾斜角γ的修正。通过迭代计算，得到点光源间距d的精确值，实现两点光源间距的纳米精度测量。 |
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