一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件

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专利名称 一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件 申请号 CN201710678152.0 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN107421648A 公开(授权)日 2017.12.01 申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 李民康;周常河;韦春龙;向显嵩;尹正坤;邓基立 主分类号 G01J9/02(2006.01)I IPC主分类号 G01J9/02(2006.01)I 专利有效期 一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件 至一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件,包括第一棱镜和第二棱镜,第一棱镜和第二棱镜的胶合面镀有分束膜,分束膜镀于第一棱镜或第二棱镜。第一入射光分别从第一棱镜上表面中心入射,经分束膜分束,从第一直角梯形面的斜边面和第二直角梯形面的斜边面对称水平出射;第二入射光分别从第二棱镜上表面中心入射,经分束膜分束,从第一直角梯形面的斜边面和第二直角梯形面的斜边面对称水平出射。移动棱镜可以实现对双光束干涉场周期的测量;在双光束中加入相位调制,可以实现对双光束干涉相位分布的测量。本发明可以用一种棱镜对双光束干涉场进行测量,具有结构简单、成本低的优点。

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