| 专利名称 | 一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法 | 申请号 | CN201710454908.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107345309A | 公开（授权）日 | 2017.11.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院力学研究所 | 发明（设计）人 | 夏原;高方圆;李光;聂学渊 | 主分类号 | C25D11/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C25D11/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法 至一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层制备方法，包括预处理、确定负向截止电压、制备涂层等步骤。本发明基于等离子体电解氧化涂层制备过程中的放电特性，解决了现有技术中存在的高硅铝合金陶瓷涂层的结构完整性和力学性能不稳定等问题，实现了高硬度(1000Hv)、高速油润滑的低摩擦系数(0.05)及良好的耐腐蚀性能(中性盐雾超过1400h)的高硅铝合金等离子体电解氧化陶瓷涂层的快速稳定制备，保证了工业化生产过程中的工艺稳定性和可重复性，具有巨大的经济和社会效益。 |
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