| 专利名称 | 利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法 | 申请号 | CN201710405813.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107267928A | 公开（授权）日 | 2017.10.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院紫金山天文台 | 发明（设计）人 | 王争;张文;缪巍;史生才 | 主分类号 | C23C14/30(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/30(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I | 专利有效期 | 利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法 至利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法，包括对蒸镀腔抽真空至2.5×10?8Torr?3.1×10?8Torr，然后开启腔体烘烤，烘烤温度100℃，腔体气压逐渐上升到2.8×10?7Torr?3.6×10?7Torr，持续烘烤腔体20?24小时后，腔内气压回到2.6×10?8Torr?3×10?8Torr，关闭烘烤等步骤；本发明在电子束蒸镀系统中加装了载入真空腔，可极大降低衬底载入蒸镀腔时对蒸镀腔内真空环境的破坏，有利于获得高质量的超导钛薄膜。 |
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