| 专利名称 | X射线断层扫描方法及系统 | 申请号 | CN201611173895.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107072022A | 公开（授权）日 | 2017.08.18 | 申请（专利权）人 | 深圳先进技术研究院 | 发明（设计）人 | 石伟;梁栋;洪序达;蒋昌辉 | 主分类号 | H05G1/38(2006.01)I | IPC主分类号 | H05G1/38(2006.01)I | 专利有效期 | X射线断层扫描方法及系统 至X射线断层扫描方法及系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明属于X射线成像技术领域，提供了一种X射线断层扫描方法及系统，所述方法包括：在扫描时，控制器按照预设的扫描模式逐个启动多焦斑X光源阵列上的X射线源进行脉冲式发射，并控制当前X射线源按照其预设的脉冲曝光时间照射扫描对象，以使得不同排布位置上的X射线源照射到扫描对象上的表面剂量趋于一致；探测器采集不同排布位置上的X射线源照射到扫描对象后的投影图像，并将所述投影图像传输到终端设备；终端设备根据所述投影图像重建出所述扫描对象的三维图像。本发明通过控制脉冲曝光时间来调整投影图像的质量，相对于调节管电流的方式硬件成本低、调节精度高，且可以在保证成像质量的前提下，有效地降低扫描过程的整体辐射剂量。 |
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