| 专利名称 | 一种基于DNA纳米结构的金属纳米电路图案的制备方法 | 申请号 | CN201611179428.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107055465A | 公开（授权）日 | 2017.08.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 发明（设计）人 | 樊春海;柳华杰;贾思思;王建榜 | 主分类号 | B82B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B82B3/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 专利有效期 | 一种基于DNA纳米结构的金属纳米电路图案的制备方法 至一种基于DNA纳米结构的金属纳米电路图案的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种基于DNA纳米结构的金属纳米电路图案的制备方法，所述方法包括：以固定在表面的DNA折纸结构为模板，通过在所述模板上引入人为缺陷，然后对该引入人为缺陷的模板进行选择性金属化，从而构建出一种基于DNA纳米结构的金属纳米电路图案。本发明提供的是一种简单快速有效的，利用DNA折纸可精确定位的特点，可得到一系列零维、一维及二维线宽仅为几个纳米的金属纳米图案的方法。本发明中主要使用的DNA折纸具有良好的生物相容性，其他所需化学、生物材料也均无人体毒害性。因此，本发明为实现以“自下而上”的自组装手段构建纳米电路、突破传统光刻技术极限提供了一种新的思路及技术支撑。 |
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