| 专利名称 | 一种制备亲疏图案的光刻方法 | 申请号 | CN201710044839.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107065444A | 公开（授权）日 | 2017.08.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院广州能源研究所 | 发明（设计）人 | 朱艳青;徐刚;史继富 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种制备亲疏图案的光刻方法 至一种制备亲疏图案的光刻方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种制备亲疏图案的光刻方法，包括以下步骤：首先在基底上涂覆或喷涂带有图案的图案连接层，其次涂覆、喷涂或旋涂表面涂层，最后由紫外光或太阳光或可见光或红外光进行照射，得到亲疏图案；所述的基底的材料选自玻璃、金属、合金、不锈钢、墙体、纸张、棉织物中的任一种；所述的图案连接层为具有图案的有机硅胶或硅氧烷；所述表面涂层为尺寸为10nm～10μm微纳二氧化钛颗粒或表面修饰有低表面能物质的微纳二氧化钛颗粒。本发明不需要光掩模，制备方法简单，扩大了光刻技术的使用范围，并且节省了能源，并可以制备任意尺寸的图案，实现低表面能物质的自供应，从而延长了其使用寿命，具有广泛的应用前景。 |
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