| 专利名称 | 一种基于三维直写的微透镜阵列制造方法 | 申请号 | CN201710213853.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107009613A | 公开（授权）日 | 2017.08.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 郭建军;徐鼎鼎;雷雨;许高杰 | 主分类号 | B29C64/112(2017.01)I | IPC主分类号 | B29C64/112(2017.01)I;B29C64/295(2017.01)I;B29C64/393(2017.01)I;B33Y30/00(2015.01)I;B33Y50/02(2015.01)I;B29L11/00(2006.01)N | 专利有效期 | 一种基于三维直写的微透镜阵列制造方法 至一种基于三维直写的微透镜阵列制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于三维直写的微透镜制造方法，采用三维直写设备在垂直于透明基板表面的预设阵列位置依序直写形成微透镜前体阵列，再经热熔工艺处理微透镜前体阵列，依靠表面张力形成微透镜阵列。采用本发明方法不仅可以在同一基底上制造不同曲率和不同结构透镜，而且可在任何平面、曲面、甚至柔性基底上加工微透镜阵列，大大的降低了成本，提高了成品率和性能。 |
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