| 专利名称 | 用于光学性能精细调控的相变薄膜结构 | 申请号 | CN201710257962.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106953008A | 公开（授权）日 | 2017.07.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 孟云;王阳;温帅 | 主分类号 | H01L45/00(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L45/00(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I | 专利有效期 | 用于光学性能精细调控的相变薄膜结构 至用于光学性能精细调控的相变薄膜结构 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于光学性能精细调控的相变薄膜结构，上下两层为二氧化硅层，中间为相变层，所述的相变层的材料为碳化钛或碳化硅掺杂的锑?碲材料，相变层材料结构通式为MC?(Sb2Te3)x，其中，M为钛或硅，x的取值范围为0.5＜X＜1。本发明相变薄膜结构经过激光辐照处理后，在50?250℃温度区间内，其电阻率(或反射率)随温度变化没有显著的突变点，可用于光学精细调控。该相变薄膜结构可广泛应用于纳米尺度光电开关、超快光转换、超分辨光存储等多个领域。 |
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