| 专利名称 | 一种基于干法清洗工艺制备铜衬底的方法 | 申请号 | CN201510934979.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106884153A | 公开（授权）日 | 2017.06.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 张燕辉;于广辉;葛晓明;张浩然;陈志蓥;隋妍萍;邓荣轩 | 主分类号 | C23C16/02(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/02(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于干法清洗工艺制备铜衬底的方法 至一种基于干法清洗工艺制备铜衬底的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种基于干法清洗工艺制备铜衬底的方法，包括步骤：步骤1），提供制备石墨烯用的铜衬底；步骤2），将所述铜衬底置于有氧环境中处理，使所述铜衬底表面氧化，形成氧化层；以及步骤3），去所述铜除衬底表面的氧化层，得到清洁的铜衬底表面。本发明通过氧化石墨烯生长用铜衬底，使得衬底表面层氧化并从衬底脱落，获得适宜高质量石墨烯制备的清洁铜表面，该方法获得的铜衬底可明显降低成核密度，减少石墨烯中的缺陷。本发明的方法重复性高、简单易行，并且可控性强，适合工业化应用的批量化处理。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障