| 专利名称 | 一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法 | 申请号 | CN201710132621.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106872407A | 公开（授权）日 | 2017.06.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 卢宇;李中梁;王向朝;南楠;陈艳;王瑄;潘柳华;宋思雨 | 主分类号 | G01N21/45(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/45(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I | 专利有效期 | 一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法 至一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种提高扫频光学相干层析成像分辨率方法，该方法需要通过实验获得一个标准k?clock信号，然后利用互相关运算计算出需要校正的k?clock信号的延时。由计算出的延时，将k?clock信号进行左右移动从而对其进行校正，并使用插值算法计算出移动后的k?clock信号的过零点坐标。再次使用插值算法在过零点坐标处对干涉信号进行插值，得到波数域等间隔的干涉信号。将此干涉信号与一个汉明窗函数相乘进行光谱整形，然后再对经过光谱整形后的干涉信号进行快速傅里叶变换，便可得到样品反射率随深度变化的一维曲线，即A?line图像。 |
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