| 专利名称 | 一种基于双折射材料的光场调制结构设计方法 | 申请号 | CN201710227825.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106842563A | 公开（授权）日 | 2017.06.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 史立芳;王佳舟;曹阿秀;张满;庞辉;邓启凌 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于双折射材料的光场调制结构设计方法 至一种基于双折射材料的光场调制结构设计方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于双折射材料的光场调制结构设计方法。该方法主要采用双折射材料来开展结构的设计，利用双折射材料对于o光和e光折射率不同的特点，可以同时对入射光获得两个相位调制量。双折射材料上面结构的高度是采用迭代计算的方法获得的，对每个像素点设置初始高度，然后计算其分别对应的o光和e光的相位调制量，并且与目标相位调制量相比较取绝对差值，以均方根植作为衡量标准，当均方根值最小值确定该点的高度值。对每个像素点逐点计算，获得所有像素点的高度值。利用该方法实现目标光场偏振态和振幅的调控，不需要复杂的光路，并且用一片结构就可以实现对入射光的不同相位调制，同时衍射效率高。 |
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