| 专利名称 | 四硼酸六锂双折射晶体的制备方法和用途 | 申请号 | CN201510857035.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106811796A | 公开（授权）日 | 2017.06.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院新疆理化技术研究所 | 发明（设计）人 | 潘世烈;陈幸龙;张方方 | 主分类号 | C30B9/12(2006.01)I | IPC主分类号 | C30B9/12(2006.01)I;C30B29/10(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I | 专利有效期 | 四硼酸六锂双折射晶体的制备方法和用途 至四硼酸六锂双折射晶体的制备方法和用途 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种四硼酸六锂双折射晶体的制备方法和用途，该晶体化学式为Li6B4O9，分子量228.88，属于单斜晶系，空间群为P21/c，晶胞参数为a=3.329(6)?，b?=23.451(9)?，c=9.197(3)β?=92.587(5)°,V?=710.68(4)?3，Z=4；采用助溶剂法生长晶体，通过本发明所述方法获得的四硼酸六锂双折射晶体为负双轴晶体，透过范围180-3450nm，在该波段范围内双折射率为0.087(3450nm)-0.190(180nm)之间。该晶体可用于红外-深紫外波段，为负双轴晶体，该晶体易于加工，不易潮解；可用于制作格兰型棱镜、渥拉斯顿棱镜、洛匈棱镜或光束分离偏振器等偏振分束棱镜在光学和通讯领域有重要应用。 |
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