| 专利名称 | 大光栅的制造装置和制造方法 | 申请号 | CN201710019314.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106772736A | 公开（授权）日 | 2017.05.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 周常河;向显嵩;韦春龙;李民康 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 大光栅的制造装置和制造方法 至大光栅的制造装置和制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种大光栅的制造装置和制造方法，该装置包括光源移动模块、基片移动模块和监测控制模块三部分。相比于以往的扫描光束法制造光栅的装置，该装置将光栅基片的二维扫描运动拆分，使用一维精密平移台分别驱动光源和光栅基片，免除了配备二维精密平移台的需求，大大节约了系统成本。该装置构造简单，易于拓展的所制大光栅的面积。结合3轴激光干涉仪定位及闭环调节控制方法，该装置能有效制作出具有高条纹精度和平行度的大光栅。 |
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