| 专利名称 | 一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法 | 申请号 | CN201510822743.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106756781A | 公开（授权）日 | 2017.05.31 | 申请（专利权）人 | 深圳先进技术研究院 | 发明（设计）人 | 唐永炳;蒋春磊 | 主分类号 | C23C14/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 专利有效期 | 一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法 至一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明适用于真空镀膜技术领域，提供了一种仿生结构立方氮化硼涂层及其制备方法。所述仿生结构立方氮化硼涂层涂覆在基底上，所述仿生结构立方氮化硼涂层由底部的韧性层和顶部的高硬层构成，所述高硬层为立方氮化硼层，所述韧性层为M2层与M1Bx:M2掺杂复合层交替沉积形成的多层复合结构，且所述M1Bx:M2掺杂复合层为M2掺杂M1Bx形成的复合层，其中，所述M1、M2为相同或不同的过渡金属，所述x的取值范围为：0.5≤x≤4。 |
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