| 专利名称 | 一种高精度亚像元位移产生方法 | 申请号 | CN201611024819.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106651929A | 公开（授权）日 | 2017.05.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 赵惠;宗财慧;李创;樊学武 | 主分类号 | G06T7/38(2017.01)I | IPC主分类号 | G06T7/38(2017.01)I | 专利有效期 | 一种高精度亚像元位移产生方法 至一种高精度亚像元位移产生方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明属于光学成像领域，涉及一种高精度亚像元位移产生方法。本发明通过将偏差校正系数作为待求解的变量，以理想位移序列与实际输出的位移序列之间的偏差均方根误差作为目标函数，利用全局优化在高维空间中搜索来获得最优的偏差校正系数。本发明将傅里叶变换亚像元位移产生与位相相关亚像素精度位移检测嵌入到模拟退火算法全局优化框架中，通过迭代搜索获得用于校正亚像素位移产生偏差的系数，以此来提升傅里叶变换模型所产生的亚像元位移精度。本发明通过获取偏差校正系数可以大幅提升亚像元位移序列的产生精度，使后期研究超分辨重建算法以及位移控制偏差对重建效果的影响有高精度仿真数据作为保证。 |
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