| 专利名称 | 图案化聚乙烯四硫醇镍薄膜及器件的制备方法 | 申请号 | CN201610937199.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106531878A | 公开（授权）日 | 2017.03.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院化学研究所 | 发明（设计）人 | 朱道本;刘力瑶;孙源慧;徐伟;狄重安;孙祎萌 | 主分类号 | H01L35/34(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L35/34(2006.01)I;H01L35/24(2006.01)I | 专利有效期 | 图案化聚乙烯四硫醇镍薄膜及器件的制备方法 至图案化聚乙烯四硫醇镍薄膜及器件的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了图案化聚乙烯四硫醇镍薄膜及器件的制备方法。该方法包括如下步骤：(1)按照预设计的图案，在基底表面上图案化高分子涂层，得到覆盖有高分子模板的基底；所述基底表面的空白部分为所设计的图案；(2)在惰性气氛中，将甲醇钾与1,3,4,6?四硫并环戊烯?2,5?二酮于有机溶剂中进行搅拌反应，再加入氯化镍进行反应，反应完毕后过滤，收集滤液；将所述滤液转移至电解池中，所述覆盖有高分子模板的基底固定在工作电极上，采用三电极体系，用恒电位氧化法进行氧化配位聚合反应，所述基底表面上的高分子模板和空白部分的表面均完全覆盖聚乙烯四硫醇镍薄膜；揭掉所述高分子涂层，即可在所述空白部分得到所述图案化的聚乙烯四硫醇镍薄膜。本发明方法可以较好的控制图案化器件的大小、个数、性能，工艺简单，成本低。 |
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