一种基于光谱比例扣除的稻谷近红外光谱模型优化方法

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专利名称 一种基于光谱比例扣除的稻谷近红外光谱模型优化方法 申请号 CN201610802820.1 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN106442397A 公开(授权)日 2017.02.22 申请(专利权)人 中国科学院合肥物质科学研究院 发明(设计)人 黄青;王纯阳 主分类号 G01N21/359(2014.01)I IPC主分类号 G01N21/359(2014.01)I;G01N21/3563(2014.01)I;G01N21/3554(2014.01)I 专利有效期 一种基于光谱比例扣除的稻谷近红外光谱模型优化方法 至一种基于光谱比例扣除的稻谷近红外光谱模型优化方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供一种基于光谱比例扣除的稻谷近红外光谱模型优化方法,具体为,多次测定近红外光谱模型中水稻种子的种子、种壳、糙米的近红外光谱,得到种子、种壳和糙米近红外平均光谱;再根据公式:种子平均光谱=K1×水稻糙米平均光谱+K2×水稻种壳平均光谱,计算糙米、种壳的拟合光谱并得到回归系数K1、K2;根据K1、K2系数大小,可以扣除重合信息的影响,利用拟合光谱建立优化的近红外光谱模型;与现有技术相比,利用拟合光谱能够根据K1、K2系数大小去除水稻种子近红外光谱模型中部分干扰模型的非本质多余信息的影响,因而本发明方法建立的近红外光谱模型具有更好的分析和预测性能。

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