| 专利名称 | 调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件 | 申请号 | CN201610836440.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106312797A | 公开（授权）日 | 2017.01.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 吴丽翔;魏朝阳;邵建达;刘振通 | 主分类号 | B24B39/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B39/00(2006.01)I;B24B13/00(2006.01)I;B24B55/00(2006.01)I | 专利有效期 | 调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件 至调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件，包括：行星双转子气压传动装置、关节式辅助施压机构和抛光盘，其特点在于所述的抛光盘的背面刻有同心圆沟槽，所述的关节式辅助施压机构由固定基座、活动关节和测力计组成。在光学元件边缘区域抛光过程中，通过该抛光组件对光学元件边缘区域压强分布进行调节，从而改变边缘区域材料去除量分布、达到抑制边缘效应的效果；另外，借助关节式辅助施压机构可有效减小振动幅度，从而提高抛光过程的可确定性。 |
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