光学制造系统

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专利名称 光学制造系统 申请号 CN201610493994.4 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN106196351A 公开(授权)日 2016.12.07 申请(专利权)人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明(设计)人 崔洋;于淼;彭吉;李佩玥;隋永新;杨怀江 主分类号 F24F3/16(2006.01)I IPC主分类号 F24F3/16(2006.01)I;F24F3/14(2006.01)I;F24F11/00(2006.01)I;F24F13/28(2006.01)I;F24F13/30(2006.01)I 专利有效期 光学制造系统 至光学制造系统 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种光学制造系统。光学制造系统包括:精密气体控制装置、气体管路以及环境控制装置,其中:气体管路的两端分别连接精密气体控制装置和环境控制装置;精密气体控制装置包括气体回路,气体回路还包括:除湿装置,用于对输入的气体进行除湿;过滤器,用于对经过除湿前和/或除湿后的气体进行净化过滤,并进一步将经过除湿和净化过滤的气体通过气体管路输送到环境控制装置;环境控制装置包括:高效过滤器,用于对输送的气体进一步净化过滤后输送到所需的环境中。通过上述方式,本发明避免了精密气体控制装置直接对整个大环境空间进行控制,从而导致浪费资源,环境控制装置能够仅对需要进行控制的局部环境的气体湿度和洁净度进行控制。

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