| 专利名称 | 用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法 | 申请号 | CN201610363881.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106092861A | 公开（授权）日 | 2016.11.09 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 贺涛;王凯;褚卫国;张先锋 | 主分类号 | G01N15/10(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N15/10(2006.01)I;G01N21/21(2006.01)I | 专利有效期 | 用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法 至用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法，利用光谱椭偏仪，采用有效介质近似层和四步拟合方法，包括：在衬底上形成纳米颗粒材料层，得到第一模型，对纳米颗粒材料层进行直接拟合，得到初步实验结果；在纳米颗粒材料层上形成纳米颗粒材料与空气的混合层，使得到的第二模型符合实际纳米颗粒特征；去除纳米颗粒材料层，更改纳米颗粒材料与空气的混合层的厚度与比例参数，得到第三模型，使混合层包含从顶层到底层比例一致的纳米颗粒材料与空气，并对更改后的混合层进行拟合；将更改后的混合层改进为有效介质近似层进行拟合，获得纳米颗粒的光学性质信息。本方法能满足数学上的拟合度以及物理上的形貌特征，更准确的获取纳米颗粒光学性质信息。 |
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