| 专利名称 | 一种调控石墨烯带隙方法 | 申请号 | CN201610453718.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106044759A | 公开（授权）日 | 2016.10.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院物理研究所 | 发明（设计）人 | 顾长志;张慧珍;杨海方;唐成春;李俊杰 | 主分类号 | C01B31/04(2006.01)I | IPC主分类号 | C01B31/04(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 专利有效期 | 一种调控石墨烯带隙方法 至一种调控石墨烯带隙方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种调控石墨烯带隙方法，属于光电子技术领域，根据本发明提供的调控石墨烯带隙方法制备的石墨烯条带器件，能够在较宽的宽度下能有效的打开石墨烯的带隙；通过在石墨烯条带上制备单排孔阵列结构，且制备的石墨烯条带结构为多条石墨烯纳米带的并联结构，从而增大了石墨烯条带器件的承载的驱动电流能力；进而使得其既可以有效的打开石墨烯带隙，同时又可以增大石墨烯器件的驱动电流承载能力，且在特征尺寸较大时，也可以实现石墨烯带隙的有效调控。 |
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