| 专利名称 | 多分散大粒径硅溶胶及其制备方法 | 申请号 | CN201610382474.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106044786A | 公开（授权）日 | 2016.10.26 | 申请（专利权）人 | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 孔慧;刘卫丽;宋志棠 | 主分类号 | C01B33/14(2006.01)I | IPC主分类号 | C01B33/14(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 专利有效期 | 多分散大粒径硅溶胶及其制备方法 至多分散大粒径硅溶胶及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种多分散大粒径硅溶胶及其制备方法，其主要作为抛光液使用提高抛光速度，所述制备方法是采用以下方法制备的：以粒径为20nm?30nm的单分散球形硅溶胶为晶种，搅拌并加热，同时向反应体系不断的滴加粒径为20nm?30nm的单分散球形硅溶胶晶种和活性硅酸，在整体反应过程中采用加热浓缩法维持恒液位，期间，滴加无机碱稀溶液以保持体系的pH值在9.5~10.5，保温后冷却。采用本发明制备的硅溶胶能够有效的提高抛光速度，同时减少划痕产生。 |
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