| 专利名称 | 一种公自转轮式研抛磨头 | 申请号 | CN201710338920.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN107116418A | 公开（授权）日 | 2017.09.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 万勇建;陈祥;刘海涛;黄智;赵文川 | 主分类号 | B24B13/01(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B13/01(2006.01)I | 专利有效期 | 一种公自转轮式研抛磨头 至一种公自转轮式研抛磨头 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种公自转轮式研抛磨头，包括公自转机构和电动控制机构。所述公自转机构中公转轴线与自转轴线相互垂直，正交于研抛轮中心；所述研抛轮自转轴上安装有齿轮；所述齿轮在围绕公转轴线公转的同时还为研抛轮提供自转动力。所述电动控制机构包括直线音圈电机、三脚传力架、齿盘，所述直线音圈电机用于动态调控研抛中的研抛压力。本发明采用正交运动的结构方式，具有动转动平衡、去除效率高的优点；同时采取高精度、高响应频率的直线音圈电机作为研抛力控制执行器，输出准确的研抛压力。在研抛的时候通过自转、公转的配合以及压力的动态调控，实现高效、高精度的去除效果。 |
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