| 专利名称 | 溅射镀膜设备及其镀膜腔室 | 申请号 | CN201710136620.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106893993A | 公开（授权）日 | 2017.06.27 | 申请（专利权）人 | 深圳先进技术研究院 | 发明（设计）人 | 刘壮;崔骏;张撷秋;杨世航;陈旺寿;李霖;顾光一 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 专利有效期 | 溅射镀膜设备及其镀膜腔室 至溅射镀膜设备及其镀膜腔室 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种溅射镀膜设备及其镀膜腔室，镀膜腔室包括：外壳，所述外壳围成镀膜腔，所述外壳包括底壁、前壁及与所述前壁相对的后壁；阴极，设置于所述前壁上，且沿所述前壁排列；基架，可滑动地设置于所述底壁上，所述基架的运动方向与所述阴极排列的方向一致；支架，可转动地设置于所述基架上，所述支架能够承载样品；及，驱动机构，用于驱动所述支架转动。上述溅射镀膜设备及其镀膜腔室，采用了基架、支架及驱动机构相配合的结构，从进样到镀膜再到出样的过程中，样品均随着基架移动，以实现连续生产。同时，驱动机构能够驱动支架转动，以实现对非平面异形样品各个表面上的均匀镀膜。 |
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