| 专利名称 | 利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法 | 申请号 | CN201611133619.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106756863A | 公开（授权）日 | 2017.05.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 才玺坤;武潇野;时光;张立超;隋永新;杨怀江 | 主分类号 | C23C14/54(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/54(2006.01)I | 专利有效期 | 利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法 至利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法，包括以下步骤：对所述大口径元件进行预处理，消除大口径元件内部残余应力；静置第一预设时间后，利用斐索干涉仪对大口径元件进行面形测量，并标记为初始面形W1；为大口径元件进行镀膜；静置第二预设时间后，利用斐索干涉仪再次对镀膜后的大口径元件进行面形测量，并标记为测试面形W2；利用公式ΔW＝W2?W1得到镀膜引起的元件面形改变量ΔW；利用面形改变量ΔW对膜厚修正挡板进行优化。本发明利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性，通过镀膜前后分别测量大口径元件的表面面形，将元件两次面形数据相减得到镀膜引起的面形改变量，精确反映了元件的膜厚均匀性水平。 |
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