| 专利名称 | 一种双面光刻工件台 | 申请号 | CN201610827264.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106371292A | 公开（授权）日 | 2017.02.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 杜婧;赵立新;龚健文;杨春利 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种双面光刻工件台 至一种双面光刻工件台 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种双面光刻工件台，包括基座、下掩模XYθ向运动台、下掩模调平机构、上掩模升降机构；基座为整个工件台的安装基准，由底板、支撑立柱与上板组成；下掩模XYθ向运动台与底板连接，通过导轨滑体、交叉滚柱轴环等结构实现下掩模相对上掩模在X、Y、θ方向上的运动；下掩模调平机构与下掩模XYθ向运动台连接，半球、球碗与弹簧机构实现上掩模在下降过程中与下掩模的调平，气缸锁紧和球碗真空吸附机构实现对调平机构的锁紧；上掩模升降机构由电机带动精密滚珠丝杠实现驱动，开口型直线滚珠导套和精密光轴作为导向，实现上掩模在放片时的上升运动和对准曝光时的下降运动。本发明具有生产效率高、操作方便、对准精度和曝光分辨率较高的优点。 |
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