| 专利名称 | 一种线条粗糙度的测量方法及系统 | 申请号 | CN201610645840.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN106352820A | 公开（授权）日 | 2017.01.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 张利斌;韦亚一 | 主分类号 | G01B15/08(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B15/08(2006.01)I | 专利有效期 | 一种线条粗糙度的测量方法及系统 至一种线条粗糙度的测量方法及系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种线条粗糙度的测量方法及系统，确定多个像素阈值，并获得每个像素阈值下的边缘分布，在对边缘分布进行分析后，获得每个像素阈值下的线条粗糙度，通过对所有像素阈值下的线条粗糙度进行比较，选择线条粗糙度连续变化时的最小值作为待测结构的线条粗糙度。在该方法中，采用多像素阈值的方法，每次测试中对所有像素阈值下的线条粗糙度进行比较，选择线条粗糙度连续变化时的最小值作为待测结构的线条粗糙度，该线条粗糙度为最佳像素阈值下的测量值，测试结果更具有准确性，对于不同批次产品的测量，最佳像素阈值下的测量值为动态获得的，测试结果具有准确性和稳定性，能够真实反映刻蚀工艺是否达标，利于提高产品的良率和性能。 |
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