| 专利名称 | 一种强电离辐射环境下的温度测量系统 | 申请号 | CN201820693659.3 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN208206333U | 公开（授权）日 | 2018.12.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院高能物理研究所 | 发明（设计）人 | 杨俊亮;张小威;赵越;朱晔;李瑭 | 主分类号 | G01K11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01K11/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种强电离辐射环境下的温度测量系统 至一种强电离辐射环境下的温度测量系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种强电离辐射环境下的温度测量系统。本系统包括光源、波长选择器、探测器和机械控制测量装置；其中，该波长选择器仅允许经待测晶体表面产生的中心波长为λ的衍射光束输出；所述光源，用于产生入射到待测晶体表面的入射光束；所述机械控制测量装置分别与该波长选择器、待测晶体连接，用于调整该波长选择器的位置，使其接收入射光束经该待测晶体表面产生的中心波长为λ的衍射光束；以及改变该待测晶体与入射光束之间的入射角度；所述探测器，用于测量该波长选择器输入的光束强度。本实用新型既解决了强电离辐射环境下温度测量问题，同时也精确测得了强电离辐射环境下晶体表面的温度值。 |
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