| 专利名称 | 相位掩膜可调的波前编码成像系统 | 申请号 | CN201820836746.X | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN208270846U | 公开（授权）日 | 2018.12.21 | 申请（专利权）人 | 西安电子科技大学;中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 魏静萱;赵惠;夏晶晶;张凌 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I;G02B26/06(2006.01)I | 专利有效期 | 相位掩膜可调的波前编码成像系统 至相位掩膜可调的波前编码成像系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型属于光学技术领域，具体涉及一种相位掩膜可调的波前编码成像系统。该系统可根据实际需要切换相位掩膜形式，从而允许系统在常规无掩膜成像、编码成像以及更多掩膜编码形式之间灵活切换，从而允许波前编码成像系统具有更强的灵活性。该系统包括沿着光轴传输方向依次设置的成像镜头、相位掩膜组件、图像探测器以及图像处理单元；其改进之处是：所述相位掩膜组件由两个三次方形相位板沿着光轴传输方向叠加而成，且两个三次方形相位板采用两种方式可形成相对旋转角度。 |
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