| 专利名称 | 光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置 | 申请号 | CN201820656372.3 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN208076920U | 公开（授权）日 | 2018.11.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电研究院 | 发明（设计）人 | 苏佳妮;卢增雄;齐月静;杨光华;王宇 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置 至光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供一种光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置，属于投影光刻性能检测领域，旨在解决现有技术中由于投影物镜像方视场较大、没有足够大尺寸的探测器直接在线测量的技术问题，其中，所述在线测量装置包括探测器、掩模板、掩模台和工件台，所述掩模板的中心具有长方形孔，在线测量时，光束将掩模板的长方形孔经所述投影物镜成像到像面处，所述探测器探测所述像面处的成像，所述在线测量装置基于掩模板标记成像的方式，解决了现有技术中存在的投影物镜像方视场较大、没有足够大尺寸的探测器进行直接测量的问题，实现了投影物镜集成后像方视场的在线测试，且测量速度快、易于推广应用。 |
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