专利名称 | 基于K均值聚类的光场前景分割方法及装置 | 申请号 | CN201711230611.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN107862698A | 公开(授权)日 | 2018.03.30 | 申请(专利权)人 | 首都师范大学;中国科学院计算技术研究所 | 发明(设计)人 | 刘杰;周建设;陈宪宇;代锋 | 主分类号 | G06T7/11(2017.01)I | IPC主分类号 | G06T7/11(2017.01)I;G06T7/136(2017.01)I;G06T7/168(2017.01)I;G06T7/194(2017.01)I;G06K9/62(2006.01)I | 专利有效期 | 基于K均值聚类的光场前景分割方法及装置 至基于K均值聚类的光场前景分割方法及装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于K均值聚类的光场前景分割方法及装置,方法包括:针对待处理的光场图像,提取重聚焦图像、极线平面图像和全清晰图像;采用结构张量方法对极线平面图像进行处理,获取极线平面深度信息;采用离散余弦响应方法对重聚焦图像进行处理,获取重聚焦信息;采用超像素分割技术讲全清晰图像分割的多个区域,针对每一个区域,获取区域颜色特征、区域几何特征、区域对应点特征和区域重聚焦特征;并采用K均值聚类计算区域之间的相似度;基于相似度,采用图割算法标记前景和背景,获取光场图像的前景分割结果。上述方法处理后的前景分割结果比现有技术中的前景分割结果更准确。 |
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